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2021.04.16 Fri UP

本学教員らが2021年度東芝デバイス＆ストレージ株式会社学術奨励制度に採択

本学教員らが2021年度東芝デバイス＆ストレージ株式会社学術奨励制度に採択されました。

選出者: 理学部第一部　物理学科　教授　山本貴博
採択題目: 2021年度東芝デバイス＆ストレージ株式会社学術奨励制度
内容: 地球規模でのエネルギー問題の解決やIoT社会の早期実現に向けて、未利用の熱エネルギーを電気エネルギーに変換する高性能な熱電材料の研究が重要視されています。本研究では、この問題の鍵となる「材料の有する非一様性を積極的に活用した熱電発電機構の創出」を目的とし、非一様物質の熱電物性を解析する新たなシミュレーション技術の開発とその応用を行います。
採択日: 2021年3月12日

選出者: 研究推進機構　総合研究院　講師　野島雅
採択題目: 2021年度東芝デバイス＆ストレージ株式会社学術奨励制度
内容: 国内の学術研究機関に所属する若手研究者を対象に、東芝デバイス＆ストレージ株式会社より2018年度から開始した学術奨励制度として2019年度・2020年度に続き採択されました。本研究は、金属溶液から任意のイオンビームを形成し、電界スプレー堆積(ESD)法によって金属薄膜を形成を目的とします。電界スプレー堆積(ESD)法を積層プロセスのツールとして用いて、元素材料レシピをそのまま実現できるモノづくり手法を提案いたします。まず、真空中電界スプレーイオン化における金属溶液の溶媒分子および溶媒和イオンの挙動を明らかにします。次に回転電場質量分離を行うことで、溶液中の溶媒分子および溶媒和イオンを質量パターン状に分離します。これによって、ビックデータや機械学習に基づいた情報空間：マテリアルズ・インフォマティクス(MI)から最適な薄膜形成をすることが可能となります。
採択日: 同上

■東芝デバイス＆ストレージ株式会社
https://toshiba.semicon-storage.com/jp/top.html
■2021年度東芝デバイス＆ストレージ株式会社学術奨励制度
https://www.taf.or.jp/news/award2019/

■研究推進機構　総合研究院：https://rist.tus.ac.jp/