東京理科大学　研究者情報データベース　

Top > Back > 学会発表の検索結果 739 件中 691‐720 件目

1,2-Diol Monosulfonates as Acid Amplifiers for Photolithography

[ 共同発表者名 ] Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Takeshi Ohfuji, Takuya Naito

[ 学会・会議名 ] 1999 Fall ACS Meeting

[ 発表日付 ] 1999年8月23日

Lithography Performance of ArF Chemically Amplified Resists Using Acid Amplifier

[ 共同発表者名 ] Takeshi Ohfuji, Takuya Naito, Masayuki Endo, Hiroaki Morimoto, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura

[ 学会・会議名 ] 1999 Fall ACS Meeting

[ 発表日付 ] 1999年8月23日

塩基増殖反応とその応用1. フェニルスルホニルエチルカルバメート型塩基増殖剤の合成と性質

[ 共同発表者名 ] 宮本真奈、有光晃二、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第16回フォトポリマーコンファレンス

[ 発表日付 ] 1999年6月24日

塩基増殖反応とその応用2. 9-フルオレニルメチルカルバメート型塩基増殖剤の合成と性質

[ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第16回フォトポリマーコンファレンス

[ 発表日付 ] 1999年6月24日

193 nm光に吸収が小さな新規酸増殖剤の合成と特性

[ 共同発表者名 ] PARK Sang-Wook、有光晃二、市村國宏、大藤武

[ 学会・会議名 ] 第16回フォトポリマーコンファレンス

[ 発表日付 ] 1999年6月24日

193 nm Lithography with Novel Highly Transparent Acid Amplifier for Chemically Amplified Resists

[ 共同発表者名 ] Takuya Naitou, Takeshi Ohfuji, Masayuki Endo, Hiroaki Morimoto, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura

[ 学会・会議名 ] The 16th Conference of Photopolymer Science and Technology with The International Symposium on Materials & Processes for Giga-bit Lithography 1999

[ 発表日付 ] 1999年6月23日

塩基増殖能を有するフェニルスルホニルエチルカルバメートの合成と性質

[ 共同発表者名 ] 宮本真奈、有光晃二、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 平成11年度日本写真学会年次大会

[ 発表日付 ] 1999年5月25日

塩基増殖能を有する9-フルオレニルメチルカルバメートの合成と性質

[ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 平成11年度日本写真学会年次大会

[ 発表日付 ] 1999年5月25日

193 nm光に対する吸光係数が小さな芳香族系酸増殖剤の合成と性質

[ 共同発表者名 ] PARK Sang-wook、有光晃二、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 平成11年度日本写真学会年次大会

[ 発表日付 ] 1999年5月25日

酸増殖反応を組み込んだホログラム材料

[ 共同発表者名 ] 寺西章、有光晃二、PARK Sang-wook、市村國宏、伊藤浩光

[ 学会・会議名 ] 日本化学会第76春季年会

[ 発表日付 ] 1999年3月28日

光酸発生能を有する新規酸増殖剤の合成と感光性高分子への応用

[ 共同発表者名 ] 有光晃二、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第47回高分子討論会

[ 発表日付 ] 1998年10月2日

酸増殖型可視光感光性高分子の特性

[ 共同発表者名 ] 寺西章、有光晃二、野口宗、PARK Sang-wook、市村國宏、伊藤浩光

[ 学会・会議名 ] 第47回高分子討論会

[ 発表日付 ] 1998年9月30日

193 nmレジスト用新規酸増殖剤の合成と性質

[ 共同発表者名 ] PARK Sang-wook、有光晃二、野口宗、寺西章、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第47回高分子討論会

[ 発表日付 ] 1998年9月30日

ジオールモノスルホナート型酸増殖剤を用いた可視光用感光性高分子材料

[ 共同発表者名 ] 寺西章、有光晃二、森野慎也、野口宗、パクサンウク、市村國宏、伊藤浩光

[ 学会・会議名 ] 第15回フォトポリマーコンファレンス

[ 発表日付 ] 1998年6月26日

Synthesis of Trioxane Derivative as an Acid Amplifier and its Application for Photopolymer Systems

[ 共同発表者名 ] Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura

[ 学会・会議名 ] The 15th Conference of Photopolymer Science and Technology with The International Symposium on Materials & Processes for Giga-bit Lithography 1998

[ 発表日付 ] 1998年6月25日

酸増殖剤/光酸発生剤/ノボラック樹脂の３成分からなる感光性高分子の特性

[ 共同発表者名 ] 有光晃二、野口宗、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第47回高分子学会年次大会

[ 発表日付 ] 1998年5月27日

酸増殖反応とその応用. 2,3-ピナンジオールモノスルホナート型酸増殖剤の性質と感光性高分子材料への応用

[ 共同発表者名 ] 野口宗、有光晃二、寺西章、市村國宏、伊藤浩光

[ 学会・会議名 ] 第47回高分子学会年次大会

[ 発表日付 ] 1998年5月27日

酸増殖反応を利用した可視光感光性高分子の特性

[ 共同発表者名 ] 寺西章、有光晃二、森野慎也、野口宗、市村國宏、伊藤浩光

[ 学会・会議名 ] 第47回高分子学会年次大会