東京理科大学　研究者情報データベース　

Top > Back > 学会発表の検索結果 739 件中 571‐600 件目

365 nm光に感光する光反応性塩基増殖型シリコーン樹脂の特性と光パターニングへの応用

[ 共同発表者名 ] 有光晃二、小林洋、郡司天博、阿部芳首、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第53回高分子討論会

[ 発表日付 ] 2004年9月15日

ポリエトキシシロキサンからの自己支持膜の調製と性質

[ 共同発表者名 ] 阿部　芳首、郡司　天博、有光　晃二、林　祐紀

[ 学会・会議名 ] 第53回高分子討論会

[ 発表日付 ] 2004年9月15日

縮合安定な高分子量ポリメチルシルセスキオキサンの合成と性質

[ 共同発表者名 ] 阿部　芳首、郡司　天博、有光　晃二

[ 学会・会議名 ] 日本ゾル−ゲル学会第2回討論会

[ 発表日付 ] 2004年7月30日

オリゴセルセスキオキサンの合成と性質

[ 共同発表者名 ] 阿部　芳首、郡司　天博、有光　晃二、須山　健一

[ 学会・会議名 ] 日本ゾル−ゲル学会第2回討論会

[ 発表日付 ] 2004年7月30日

光塩基発生基を有する塩基増殖性オリゴシロキサンの合成と感光特性

[ 共同発表者名 ] 有光　晃二、小林　洋、古谷　昌大、郡司　天博、阿部　芳首、市村　國宏

[ 学会・会議名 ] 第21回フォトポリマーコンファレンス

[ 発表日付 ] 2004年6月24日

Polymers with Base-amplifying Side Chains. Synthesis and Properties

[ 共同発表者名 ] Kunihiro Ichimura, Akira Igarashi, Koji Arimitsu and Takahiro Seki

[ 学会・会議名 ] The 21st Conference of Photopolymer Science and Technology, The international Symposium 2004, Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology

[ 発表日付 ] 2004年6月24日

Polymers with Acid-amplifying Side Chains as Positive-type Photoresists

[ 共同発表者名 ] Sang-Wook Park, Koji Arimitsu and Kunihiro Ichimura

[ 学会・会議名 ] The 21st Conference of Photopolymer Science and Technology, The international Symposium 2004, Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology

[ 発表日付 ] 2004年6月24日

365nm光に感光する光反応性塩基増殖型オリゴシロキサンの合成と光パターニングへの応用

[ 共同発表者名 ] 有光晃二、小林洋、郡司天博、阿部芳首、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第53回高分子学会年次大会

[ 発表日付 ] 2004年5月25日

塩基増殖性アルコキシシランとテトラエトキシシランとの共重縮合体の熱分解挙動と感光特性

[ 共同発表者名 ] 森川雄市、有光晃二、郡司天博、阿部芳首、市村國宏

[ 学会・会議名 ] 第53回高分子学会年次大会

[ 発表日付 ] 2004年5月25日

シクロメタラシロキサンの合成と性質

[ 共同発表者名 ] 阿部　芳首、郡司　天博、有光　晃二

[ 学会・会議名 ] 第53回高分子学会年次大会