Top > Back > 学会発表 の検索結果 739 件中 661‐690 件目
| ポリメタクリル酸／シロキサン系ポリマーハイブリッドの合成と性質 |
| [ 共同発表者名 ] 岩瀧 康彦，有光 晃二，郡司 天博，阿部 芳首 |
| [ 学会・会議名 ] 第51回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2002年1月 |
| メチルトリアルコキシシランの酸加水分解によるポリメチルシルセスキオキサンの合成と性質 |
| [ 共同発表者名 ] 飯塚康行 谷川 聡 郡司天博 阿部芳首 |
| [ 学会・会議名 ] 第20回無機高分子研究討論会 |
| [ 発表日付 ] 2001年11月 |
| アミノチタンを用いたチタノシロキサン化合物の合成と性質 |
| [ 共同発表者名 ] 棚橋 巧一，有光 晃二，郡司 天博，阿部 芳首 |
| [ 学会・会議名 ] 第20回無機高分子研究討論会 |
| [ 発表日付 ] 2001年11月 |
| メチルトリイソプロポキシシランの塩基性加水分解によるポリメチルシルセスキオキサンの合成と性質 |
| [ 共同発表者名 ] 谷川 聡，飯塚 康行，有光 晃二，郡司 天博，阿部 芳首 |
| [ 学会・会議名 ] 第20回無機高分子研究討論会 |
| [ 発表日付 ] 2001年11月 |
| 塩基増殖反応とその応用13. 水現像可能な塩基増殖性フォトポリマーの感光特性 |
| [ 共同発表者名 ] 五十嵐亮、有光晃二、関隆広、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第50回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2001年9月13日 |
| 塩基増殖反応とその応用12. 塩基増殖高分子の合成と光画像形成材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] 五十嵐亮、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第50回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2001年5月24日 |
| 酸・塩基増殖反応と光反応材料への応用（招待講演） |
| [ 共同発表者名 ] |
| [ 学会・会議名 ] 第50回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2001年5月23日 |
| 塩基増殖反応とその応用11. 連鎖的にアミノ基を生成する高分子の合成と性質 |
| [ 共同発表者名 ] 五十嵐亮、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第79回日本化学会春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2001年3月28日 |
| 塩基増殖反応とその応用9. 9-フルオレニルメチルカルバメートの非線形有機化学反応と光硬化材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Japan 2000シンポジウム |
| [ 発表日付 ] 2000年11月15日 |
| 塩基増殖反応とその応用10. フェニルスルホニルエチルカルバメートの非線形有機化学反応と光硬化材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、五十嵐亮、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Japan 2000シンポジウム |
| [ 発表日付 ] 2000年11月15日 |
| トリフルオロアルカンスルホン酸の増殖と酸増殖型フォトレジストへの応用 |
| [ 共同発表者名 ] Lee Sungeun、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Japan 2000シンポジウム |
| [ 発表日付 ] 2000年11月13日 |
| 酸増殖能を有する高分子と光酸発生剤からなる酸増殖型フォトレジストの感光特性 |
| [ 共同発表者名 ] PARK Sang-Wook、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Japan 2000シンポジウム |
| [ 発表日付 ] 2000年11月13日 |
| 高分子中における酸反応性顔料前駆体の再顔料化過程の観察と酸増殖剤の添加効果 |
| [ 共同発表者名 ] 田原大、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Japan 2000シンポジウム |
| [ 発表日付 ] 2000年11月13日 |
| トリフルオロアルカンスルホン酸の増殖と感光性高分子への応用 |
| [ 共同発表者名 ] Lee Sungeun、有光晃二、PARK Sang-Wook、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第49回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2000年9月29日 |
| 酸反応性顔料前駆体をプローブとする高分子固体中での酸増殖反応と顔料分子の集合過程の観察 |
| [ 共同発表者名 ] 田原大、有光晃二、PARK Sang-Wook、Lee Sungeun、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第49回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2000年9月29日 |
| 塩基増殖反応とその応用8. 脂肪族アミンの増殖を利用した新規光硬化材料 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第49回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2000年9月27日 |
| Base Proliferation Reactions of Carbamates and Their Applications |
| [ 共同発表者名 ] Koji Arimitsu、Mana Miyamoto、Kunihiro Ichimura |
| [ 学会・会議名 ] The Eighth International Kyoto Conference on New Aspects of Organic Chemistry |
| [ 発表日付 ] 2000年7月14日 |
| 塩基増殖反応とその応用7. 塩基増殖剤を用いた光硬化材料の高感度化 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第17回フォトポリマーコンファレンス |
| [ 発表日付 ] 2000年6月30日 |
| シクロヘキサノール骨格をもった酸増殖剤の合成と応用 |
| [ 共同発表者名 ] Lee Sungeun、有光晃二、PARK Sang-Wook、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第17回フォトポリマーコンファレンス |
| [ 発表日付 ] 2000年6月30日 |
| 側鎖に酸増殖ユニットを有する新規高分子の合成とレジスト材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] PARK Sang-Wook、有光晃二、Lee Sungeun、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第17回フォトポリマーコンファレンス |
| [ 発表日付 ] 2000年6月30日 |
| 顔料前駆体の高分子固体中における酸触媒反応と酸増殖剤の添加効果 |
| [ 共同発表者名 ] 田原大、有光晃二、PARK Sang-Wook、Lee Sungeun、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第17回フォトポリマーコンファレンス |
| [ 発表日付 ] 2000年6月30日 |
| 塩基増殖反応とその応用6. 脂肪族１級アミンの増殖と光硬化材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第49回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2000年5月29日 |
| 光酸発生剤と酸増殖高分子からなる新規レジスト材料の感光特性 |
| [ 共同発表者名 ] PARK Sang-Wook、有光晃二、Lee Sangeun、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第49回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2000年5月29日 |
| 酸反応性顔料前駆体をプローブとする高分子固体中での酸触媒反応の観察 |
| [ 共同発表者名 ] 田原大、有光晃二、PARK Sang-Wook、LEE Sangeun、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第49回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2000年5月29日 |
| 塩基増殖反応とその応用5. フェニルスルホニルエチルカルバメート誘導体の塩基増殖反応に及ぼす置換基効果 |
| [ 共同発表者名 ] 宮本真奈、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第78回日本化学会春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2000年3月30日 |
| 高透明酸増殖剤を用いた高感度ArFレジスト |
| [ 共同発表者名 ] 内藤卓哉、大藤武、遠藤政孝、森本博明、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第8回ポリマー材料フォーラム |
| [ 発表日付 ] 1999年10月29日 |
| 塩基増殖反応とその応用3. フェニルスルホニルエチルカルバメートを用いた感光性高分子の高感度化 |
| [ 共同発表者名 ] 宮本真奈、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第48回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 1999年10月6日 |
| 塩基増殖反応とその応用4. 9-フルオレニルメチルカルバメートを用いた感光性高分子の高感度化 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二、宮本真奈、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第48回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 1999年10月6日 |
| 酸増殖高分子の合成と感光材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] PARK Sang-Wook、有光晃二、市村國宏 |
| [ 学会・会議名 ] 第48回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 1999年10月6日 |
| Base Proliferation Reactions and Their Applications to Photopolymer Systems |
| [ 共同発表者名 ] Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura |
| [ 学会・会議名 ] 1999 Fall ACS Meeting |
| [ 発表日付 ] 1999年8月24日 |
