Top > Back > 学会発表 の検索結果 774 件中 61‐90 件目
| 光塩基発生剤を用いたチオール－エポキシ系の室温アニオンUV硬化特性 |
| [ 共同発表者名 ] 田仲ななえ、田中佑耶、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月7日 |
| 光塩基発生剤を用いた光誘起レドックス開始ラジカル重合による室温条件下での影部UV硬化 |
| [ 共同発表者名 ] 大門能、植竹和基、河田晋治、緒方雄大、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月7日 |
| イオン性櫛型ポリマーの対イオン種による強靭化現象 |
| [ 共同発表者名 ] 安田健人、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月7日 |
| アミンを発生する光塩基発生剤を用いた1液型ウレア接着剤の開発 |
| [ 共同発表者名 ] 森谷聡基、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月7日 |
| アミノピリジンを発生する光塩基発生剤の黒色レジスト材料への応用 |
| [ 共同発表者名 ] 堂越茂将、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月7日 |
| 光塩基発生剤を用いたポリアミド酸エステルのイミド化挙動 |
| [ 共同発表者名 ] 谷翼、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月7日 |
| 種々のラジカル重合性モノマーで修飾されたポリシラ ンを用いた光パターン形成 |
| [ 共同発表者名 ] 杉田健有、行森大貴、石川信広、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月5日 |
| 酸増殖剤を含む感光性ポリイミドの感光特性 |
| [ 共同発表者名 ] 渡邉高史、加藤圭吾、松村和行、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子討論会 |
| [ 発表日付 ] 2022年9月5日 |
| Fabrication of photo-adhesive materials utilizing chemical properties of 2-mercaptopyridyl groups |
| [ 共同発表者名 ] Masahiro Furutani, Daiki Fujihira, Kaoru.Endo, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Asia 2022 |
| [ 発表日付 ] 2022年8月26日 |
| Synthesis of polysilane modified with glycidyl methacrylate and fabrication of negative-tone photopatterns |
| [ 共同発表者名 ] Kenyu Sugita, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Asia 2022 |
| [ 発表日付 ] 2022年8月26日 |
| UV curing of shadow parts at room temperature by photoinduced redox-initiated radical polymerization |
| [ 共同発表者名 ] Ataru Daimon, Kazuki Uetake, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Asia 2022 |
| [ 発表日付 ] 2022年8月25日 |
| Anionic UV curing behavior of epoxy resins containing a photobase generator releasing aminopyridine |
| [ 共同発表者名 ] Natsumi Ogawa, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] RadTech Asia 2022 |
| [ 発表日付 ] 2022年8月25日 |
| カスケード式化学で構築する高感度フォトポリマー |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本接着学会 構造接着・精密接着研究会 2022年度第2回研究講演会 |
| [ 発表日付 ] 2022年7月28日 |
| 光化学の基礎と応用 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 一般社団法人ラドテック研究会 勉強会 |
| [ 発表日付 ] 2022年6月24日 |
| エポキシ・チオール混合樹脂を用いた柔軟なUV硬化膜の作製と物性評価 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 技術情報協会主催 セミナー |
| [ 発表日付 ] 2022年6月17日 |
| エポキシ樹脂の光硬化反応について |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] エポキシ樹脂技術協会主催・エポキシ樹脂技術に関する基礎講座2022 |
| [ 発表日付 ] 2022年6月7日 |
| エポキシ樹脂の光硬化反応 |
| [ 共同発表者名 ] 有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] エポキシ樹脂技術協会 エポキシ樹脂技術に関する基礎講座2022 |
| [ 発表日付 ] 2022年6月7日 |
| アウトガスのない光塩基発生剤を用いたメチレンマロネートの光アニオン重合 |
| [ 共同発表者名 ] 髙野将大、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2022年5月27日 |
| アミノピリジンを発生する光塩基発生剤を用いたエポキシ樹脂のアニオンUV硬化挙動 |
| [ 共同発表者名 ] 小川七海、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2022年5月26日 |
| 光環化反応により第三級アミンを発せさせる光塩基発生剤を用いた高感度アニオンUV硬化 |
| [ 共同発表者名 ] 滝沢理久、石井拓、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2022年5月26日 |
| メタクリル酸グリシジルで修飾されたポリシランを用いた光パターン形成 |
| [ 共同発表者名 ] 杉田健有、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 第71回高分子学会年次大会 |
| [ 発表日付 ] 2022年5月26日 |
| 光塩基発生剤を用いたメチレンマロネートの光アニオン重合 |
| [ 共同発表者名 ] 髙野将大、大村健人、大房一樹、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本化学会第102春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2022年3月25日 |
| アミノピリジンを発生する光塩基発生剤を用いた厚膜のアニオンUV硬化 |
| [ 共同発表者名 ] 小川七海、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本化学会第102春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2022年3月25日 |
| フタルアルデヒド酸誘導体の合成と性質 |
| [ 共同発表者名 ] 滝沢理久、石井拓、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本化学会第102春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2022年3月25日 |
| 潜在性塩基を用いたポリアミド酸エステルのイミド化挙動 |
| [ 共同発表者名 ] 谷翼、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本化学会第102春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2022年3月23日 |
| メタクリル酸グリシジルで修飾されたポリシランの合成と光パターニングへの応用 |
| [ 共同発表者名 ] 杉田健有、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本化学会第102春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2022年3月23日 |
| 酸増殖剤を含む黒色化学増幅レジストの感光特性 |
| [ 共同発表者名 ] 渡邉高史、青木大亮、有光晃二 |
| [ 学会・会議名 ] 日本化学会第102春季年会 |
| [ 発表日付 ] 2022年3月23日 |
| Cationic dispersion polymerization reactions for preparation of polymeric microsphere |
| [ 共同発表者名 ] Yuri Akimoto, Takeshi Wakiya, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] Pacifichem 2021 |
| [ 発表日付 ] 2021年12月18日 |
| Radical-anionic UV curing for preparation of organic-inorganic composite films |
| [ 共同発表者名 ] Yoshiki Shirai, Sayako Sato, Masahiro Furutani, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] Pacifichem 2021 |
| [ 発表日付 ] 2021年12月18日 |
| Positive-tone photo-patterning of films consisting of photobase generators and polyimide materials with base-reactive groups |
| [ 共同発表者名 ] Yuta Fujie, Mei Kunito, Maho Akimoto, Nobuhiro Ishikawa, Toshiyuki Ogata, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu |
| [ 学会・会議名 ] Pacifichem 2021 |
| [ 発表日付 ] 2021年12月18日 |
