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二量体液晶 8PY11OCB の分子配向構造

[ 共同発表者名 ] 佐々木仁, 古谷昌也, 吉澤篤, 古江広和

[ 学会・会議名 ] 2006年日本液晶学会討論会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月15日

強誘電性液晶における螺旋構造の高分子安定化

[ 共同発表者名 ] 井上貴之, 樋口望, 古江広和

[ 学会・会議名 ] 2006年日本液晶学会討論会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月15日

相の安定性に対する高分子導入の効果

[ 共同発表者名 ] 池田和裕, 山崎佑介, 古江広和

[ 学会・会議名 ] 2006年日本液晶学会討論会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月15日

モデル検査を用いたNAT越え通信ソフトウエア検証の研究

[ 共同発表者名 ] 西山裕之，溝口文雄

[ 学会・会議名 ] 日本ソフトウエア科学会第23回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日

Preparation and sintering properties of CaZrO3 powder by Sol-Gel process

[ 共同発表者名 ] T.Kineri, T.Kusaka, K.Nishio

[ 学会・会議名 ] IUMRS-ICA-2006

[ 発表日付 ] 2006年9月13日

アニオン／カチオン界面活性剤混合系におけるメソポーラスシリカ・チタニアの合成

[ 共同発表者名 ] 酒井秀樹・柴田裕史・小倉　卓・大久保貴広・阿部正彦

[ 学会・会議名 ] 第59回コロイドおよび界面化学討論会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月15日

イネのストレス応答・プログラム細胞死制御におけるCa２+チャネルOsTPC1の機能解析　　　

[ 共同発表者名 ] 朽津和幸，能鹿島央司，北川陽一郎，濱田晴康，西川大輔，来須孝光

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

イネの細胞質Ca2+濃度の非破壊モニタリング系の確立とCa2+チャネルを介したCa2+動員制御機構の解析　　2006.9.13-16　口頭発表

[ 共同発表者名 ] 岩崎洋平，来須孝光，杉山淑美，古市卓也，能鹿島央司，朽津和幸

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

タバコ培養細胞BY-2におけるTPCファミリーCa2+チャネルの局在とストレス応答における機能解析　　

[ 共同発表者名 ] 林晃之，塚田慧美，門田康弘，古市卓也，朽津和幸　

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

シロイヌナズナ培養細胞MM2dの防御応答誘導過程における細胞周期進行の阻害　

[ 共同発表者名 ] 前田穣，大野良子，木村幸恵，朽津和幸

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

プログラム細胞死制御におけるシロイヌナズナAtILP遺伝子の機能解析　

[ 共同発表者名 ] 小林和，賀屋秀隆，酒巻智仁，二瓶晋，東克己，朽津和幸

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

プログラム細胞死制御におけるAtSmac遺伝子の機能解析

[ 共同発表者名 ] 賀屋秀隆，二瓶晋，四方明格，東克己，朽津和幸

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会　

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

過敏感細胞死過程における細胞骨格と液胞の動態解析　　

[ 共同発表者名 ] 桧垣匠，郷達明，林晃之，佐野俊夫，朽名夏麿，門田康弘，朽津和幸、馳澤盛一郎　

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

タバコ培養細胞BY-2におけるTPCファミリーCa2+チャネルを介した酸化ストレス応答の細胞周期依存性　　

[ 共同発表者名 ] 門田康弘，古市卓也，佐野俊夫，武藤尚志，馳澤盛一郎，朽津和幸

[ 学会・会議名 ] 日本植物学会第70回大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月16日

レーザー補助広角3次元アトムプローブの開発と実デバイスの3次元原子レベル解析

[ 共同発表者名 ] 尾張真則，谷口昌宏，野島　雅

[ 学会・会議名 ] マイクロビームアナリシス第141委員会第125回研究会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日

「時間軸を考慮した連系線の経済性評価に関する基礎検討」

[ 共同発表者名 ] 山口順之

[ 学会・会議名 ] 平成18年電気学会電力・エネルギー部門大会

[ 発表日付 ] 2006年9月13日～ 9月15日

Highly sensitive photoimaging materials based on nonlinear organic reactions of base-amplifying silicone resins

[ 共同発表者名 ] Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Satoru Inoue, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, and Kunihiro Ichimura,

[ 学会・会議名 ] The 232nd ACS National Meeting

[ 発表日付 ] 2006年9月12日

AHPとANPを用いた予備校教員の指導力評価システムに関する考察

[ 共同発表者名 ] 松井大祐, 朝日弓未, 山口俊和