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Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2016
[ 掲載年月 ] 2016年 10月
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Cross-linking reagent derived from cysteine and its application to anionic UV curing
[ 全著者名 ] Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2016
[ 掲載年月 ] 2016年 10月
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Photochemical generation of strong bases and its application to anionic UV-curing
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2011
[ 掲載年月 ] 2011年 6月
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Acid Proliferation to Improve the Sensitivity of EUV Resists: A Pulse Radiolysis Study
[ 全著者名 ] Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Atsutaro Yoshizawa, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa
[ 掲載誌名 ] Proc. of SPIE “Advanced Lithography 2011”
[ 掲載年月 ] 2011年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Application of Novel Base Amplifiers with 3-Nitropentan-2-yl Group to Photoreactive Materials
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Yusuke Ito, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Mater. Res. Soc. Sympo. Proc.
[ 掲載年月 ] 2007年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Photoimaging Materials Based on Base-amplifying Silicone Resins Having Phenylsulfonylethyl Groups
[ 全著者名 ] Satoru Inoue, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Mater. Res. Soc. Sympo. Proc.
[ 掲載年月 ] 2007年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Highly Sensitive Photoimaging Materials Based on Nonlinear Organic Reactions of Base-amplifying Silicone Resins
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Satoru Inoue, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] ACS PMSE Preprints
[ 掲載年月 ] 2006年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Preparation and Properties of Alkoxy(methyl)silsesquioxanes as a Coating Agents
[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsum and Yoshimoto Abe
[ 掲載誌名 ] Polym. Prepr., 45
[ 掲載年月 ] 2004年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Syntheses and Properties of Ladder Oligosilsesqioxanes
[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, and Yoshimoto Abe
[ 掲載誌名 ] Polym. Prepr., 45
[ 掲載年月 ] 2004年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Marked enhancement of photoacid-catalyzed pigmentation by acid amplifiers to produce pigment-dispersed polymer films with high transparency
[ 全著者名 ] Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu and Masaru Tahara
[ 掲載誌名 ] Proceedings of Radtech Asia ‘03
[ 掲載年月 ] 2003年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Sensitivity enhancement of anionic UV-curing by base amplifiers
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe and Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proceedings of Radtech Asia ‘03
[ 掲載年月 ] 2003年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Novel photoimaging materials consisting of a photobase generator and siloxane oligomers as base amplifier
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Yuichi Morikawa, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe and Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proceedings of Radtech Asia ‘03
[ 掲載年月 ] 2003年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Preparation and properties of silicon-based organic-inorganic hybrids from vinyltrimethox-ysilane
[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsu and Yoshimoto Abe
[ 掲載誌名 ] Proc. 75th JSCM Anniversary Conference
[ 掲載年月 ] 2002年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Preparation and properties of zirconium coating organic-inorganic hybrids
[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsu and Yoshimoto Abe
[ 掲載誌名 ] Proc. 75th JSCM Anniversary Conference
[ 掲載年月 ] 2002年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Acid and base proliferation reactions and their applications to photoreactive materials
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe and Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. 75th JSCM Anniversary Conference
[ 掲載年月 ] 2002年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Base Proliferation Reactions and Their Applications 9. Nonlinear Organic Reaction of 9-Fluorenylmethyl Carbamates and Its Applications to Photocuring Materials
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Japan 2000 Symposium
[ 掲載年月 ] 2000年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Base Proliferation Reactions and Their Applications 10. Nonlinear Organic Reaction of Phenylsulfonylethyl Carbamates and Its Applications to Photocuring Materials
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Akira Igarashi, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Japan 2000 Symposium
[ 掲載年月 ] 2000年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Novel Acid Amplifiers Liberating Fluoroalkanesulfonic Acids and Thier Applications to Acid-proliferation Type Photoresists
[ 全著者名 ] Sungeun Lee, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Japan 2000 Symposium
[ 掲載年月 ] 2000年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Sensitivity Characteristics of Acid-Proliferation Type Photoresists Based on Polymeric Acid Amplifiers
[ 全著者名 ] Sang-Wook Park, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Japan 2000 Symposium
[ 掲載年月 ] 2000年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Pigmentation of Acid-labile Latent Pigments Enhanced by an Acid Amplifier in Polymer Films
[ 全著者名 ] Masaru Tahara, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Japan 2000 Symposium
[ 掲載年月 ] 2000年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
1,2-Diol Monosulfonates as Acid Amplifiers for Photolithography
[ 全著者名 ] Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Takeshi Ohfuji, Takuya Naito
[ 掲載誌名 ] Proc. ACS PMSE
[ 掲載年月 ] 1999年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Lithography Performance of ArF Chemically Amplified Resists Using Acid Amplifier
[ 全著者名 ] Takeshi Ohfuji, Takuya Naito, Masayuki Endo, Hiroaki Morimoto, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. ACS PMSE
[ 掲載年月 ] 1999年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Base Proliferation Reactions and Their Applications to Photopolymer Systems
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Mana Miyamoto, Kunihiro Ichimura
[ 掲載誌名 ] Proc. ACS PMSE
[ 掲載年月 ] 1999年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Novel Photoimaging Materials Using Acetoacetate Derivatives as Acid Amplifiers
[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Soh Noguchi, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia '97
[ 掲載年月 ] 1997年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
Novel Photoimaging Materials Using Diol Monosulfonate Derivatives as Acid Amplifiers
[ 全著者名 ] Soh Noguchi, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura, Kazuaki Kudo, Takeshi Ohfuji, Masaru Sasago
[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia '97
[ 掲載年月 ] 1997年
[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス(外国語)
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