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Interface engineering of ScAlN/GaN ferroelectric heterostructures using epitaxial Sc bottom electrodes
[ 全著者名 ] Ryota Yamamoto, Sawaki Sato, Ginji Yoshizaki, Kazuhisa Ikeda, Atsushi Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Japanese Journal of Applied Physics
[ 掲載年月 ] 2026年 7月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Phase-selective sputter epitaxy of δ-NbN, γ-Nb4N3, and β-Nb2N on atomically flat AlN
[ 全著者名 ] Y. Kato, K. Masuzawa, T. Harada, H. Miyake, A. Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Journal of Applied Physics
[ 掲載年月 ] 2026年 5月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
High-density two-dimensional electron gas in ScAlN/GaN heterostructures grown by sputter epitaxy with enhanced metal supply
[ 全著者名 ] T. Okuda, K. Kubota, Y. Wakamoto, T. Kawahara, K. Makiyama, K. Nakata, K. Ikeda, T. Maeda, A. Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Express
[ 掲載年月 ] 2026年 4月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Carrier trapping effects in the electrical characteristics of ScAlN thin films grown on n+-GaN/sapphire substrates by sputtering
[ 全著者名 ] K. Joya, S. Sato, A. Kobayashi, T. Maeda
[ 掲載誌名 ] Japanese Journal of Applied Physics
[ 掲載年月 ] 2026年 4月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Structural and ferroelectric properties of sputter-epitaxial ScAlN on GaN grown at various temperatures
[ 全著者名 ] S. Sato, Y. Wakamoto, T. Maeda, H. Funakubo, K. Ueno, H. Fujioka, K. Ikeda, A. Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2026年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Enhanced transport properties in GaN heterostructures with sputter-epitaxy-grown ScAlN barriers via thermal annealing
[ 全著者名 ] T. Okuda, S. Ota, K. Kubouta, Y. Wakamoto, S. Hashimoto, T. Seki, S. Toyama, N. Shibata, T. Kawahara, K. Makiyama, K. Nakata, K. Ikeda, T. Maeda, A. Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2025年 11月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Structural evolution in sputter-epitaxial ScAlN films on GaN/SiC substrates
[ 全著者名 ] S. Fukuda, T. Kawahara, K. Makiyama, K. Nakata, A. Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Japanese Journal of Applied Physics
[ 掲載年月 ] 2025年 9月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Effect of growth temperature on the structural and electrical properties of sputter-epitaxial ScAlN on AlGaN/AlN/GaN heterostructures
[ 全著者名 ] Shunsuke Ota, Tomoya Okuda, Kouei Kubota, Yusuke Wakamoto, Takuya Maeda, Takahiko Kawahara, Kozo Makiyama, Ken Nakata, Atsushi Kobayashi
[ 掲載誌名 ] APL Materials
[ 掲載年月 ] 2025年 8月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Sputter epitaxy of ScAlN films on GaN high electron mobility transistor structures
[ 全著者名 ] Tomoya Okuda, Shunsuke Ota, Takahiko Kawahara, Kozo Makiyama, Ken Nakata, Takuya Maeda, Atsushi Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2025年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Sputter Epitaxy of Transition Metal Nitrides: Advances in Superconductors, Semiconductors, and Ferroelectrics
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi, Takuya Maeda, Toru Akiyama, Takahiro Kawamura, Yoshio Honda
[ 掲載誌名 ] physica status solidi (a)
[ 掲載年月 ] 2025年 1月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Structural and optical properties of epitaxial ScxAl1−xN coherently grown on GaN bulk substrates by sputtering method
[ 全著者名 ] Takuya Maeda, Yusuke Wakamoto, Shota Kaneki, Hajime Fujikura, Atsushi Kobayashi
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2024年 7月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Hole Conduction Mechanism in In–Mg-Codoped GaN Prepared via Pulsed Sputtering Deposition
[ 全著者名 ] Aiko Naito, Kohei Ueno, Atsushi Kobayashi, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] physica status solidi (a)
[ 掲載年月 ] 2024年 3月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Temperature-Dependent Characteristics of AlN/Al0.5Ga0.5N High Electron Mobility Transistors with Highly Degenerate n-Type GaN Regrown Ohmic Contacts
[ 全著者名 ] Ryota Maeda, Kohei Ueno, Atsushi Kobayashi, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] physica status solidi (a)
[ 掲載年月 ] 2024年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Structural characterization of epitaxial ScAlN films grown on GaN by low-temperature sputtering
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi, Yoshio Honda, Takuya Maeda, Tomoya Okuda, Kohei Ueno, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Express
[ 掲載年月 ] 2023年 12月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Preparation of degenerate n-type AlxGa1−xN (0 < x ≤ 0.81) with record low resistivity by pulsed sputtering deposition
[ 全著者名 ] Yuto Nishikawa, Kohei Ueno, Atsushi Kobayashi, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2023年 6月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Positive impurity size effect in degenerate Sn-doped GaN prepared by pulsed sputtering
[ 全著者名 ] Yuto Nishikawa, Kohei Ueno, Atsushi Kobayashi, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2023年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Epitaxial Junction of Inversion Symmetry Breaking AlN and Centrosymmetric NbN: A Polarity Control of Wide-Bandgap AlN
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi, Shunya Kihira, Toru Akiyama, Takahiro Kawamura, Takuya Maeda, Kohei Ueno, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] ACS Applied Electronic Materials
[ 掲載年月 ] 2023年 1月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Electrical properties of N-polar Si-doped GaN prepared by pulsed sputtering
[ 全著者名 ] Kohei Ueno, Yusuke Masuda, Atsushi Kobayashi, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Express
[ 掲載年月 ] 2023年 1月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Schottky barrier height engineering in vertical p-type GaN Schottky barrier diodes for high-temperature operation up to 800 K
[ 全著者名 ] Kohei Aoyama Kohei Ueno Atsushi Kobayashi Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2022年 12月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Crystal‐Phase Controlled Epitaxial Growth of NbNx Superconductors on Wide‐Bandgap AlN Semiconductors
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi, Shunya Kihira, Takahito Takeda, Masaki Kobayashi, Takayuki Harada, Kohei Ueno, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Advanced Materials Interfaces
[ 掲載年月 ] 2022年 9月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Epitaxial growth of superconducting NbN on wide-bandgap AlN
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi, Kohei Ueno, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] JSAP Review
[ 掲載年月 ] 2022年 9月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
AlNワイドギャップ半導体上へのNbN超伝導体エピタキシャル成長
[ 全著者名 ] 小林 篤, 上野 耕平, 藤岡 洋
[ 掲載誌名 ] 応用物理
[ 掲載年月 ] 2022年 7月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(日本語)
AlN/Al0.5Ga0.5N HEMTs with heavily Si-doped degenerate GaN contacts prepared via pulsed sputtering
[ 全著者名 ] Ryota Maeda, Kohei Ueno, Atsushi Kobayashi, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Express
[ 掲載年月 ] 2022年 1月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Reduction of Twin Boundary in NbN Films Grown on Annealed AlN
[ 全著者名 ] Shunya Kihira, Atsushi Kobayashi, Kohei Ueno, Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Crystal Growth & Design
[ 掲載年月 ] 2022年 1月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Ultrathin rock-salt type NbN films grown on atomically flat AlN/sapphire substrates
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi Kohei Ueno Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Journal of Crystal Growth
[ 掲載年月 ] 2021年 10月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
High Electron Mobility AlN on Sapphire (0001) with a Low Dislocation Density Prepared via Sputtering and High‐Temperature Annealing
[ 全著者名 ] Yuya Sakurai Kohei Ueno Atsushi Kobayashi Kenjiro Uesugi Hideto Miyake Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] physica status solidi (a)
[ 掲載年月 ] 2021年 6月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Pulsed sputtering growth of heavily Si-doped GaN (20 2? 1) for tunneling junction contacts on semipolar InGaN (20 2? 1) LEDs
[ 全著者名 ] Soichiro Morikawa Kohei Ueno Atsushi Kobayashi Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Express
[ 掲載年月 ] 2021年 5月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Heavily Si-doped pulsed sputtering deposited GaN for tunneling junction contacts in UV-A light emitting diodes
[ 全著者名 ] Taiga Fudetani Kohei Ueno Atsushi Kobayashi Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2021年 2月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Vertical p-type GaN Schottky barrier diodes with nearly ideal thermionic emission characteristics
[ 全著者名 ] Kohei Ueno Keita Shibahara Atsushi Kobayashi Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2021年 1月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
Autonomous growth of NbN nanostructures on atomically flat AlN surfaces
[ 全著者名 ] Atsushi Kobayashi Kohei Ueno Hiroshi Fujioka
[ 掲載誌名 ] Applied Physics Letters
[ 掲載年月 ] 2020年 12月
[ 著作区分 ] レフェリー付学術論文(外国語)
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