谷口研究室では，ナノテクノロジーでのものづくりを行っております．携帯電話やパソコンに代表されるような高性能・多機能製品に必要なデバイス（LSI，表示部品，光学部品，反射防止フィルムなど）に応用できるものを作っております．作製方法は，微細な模様が作製できる電子ビーム技術，イオンビーム技術を用い，これを金型として樹脂等へ複製しております．この方法で，新しいデバイスを設計し，その量産性を確かめることができます．

ナノテクノロジーは今日の高度情報化社会を支える基盤技術です。例えば、コンピュータのメモリやCPUなどは、超微細加工技術によって集積され驚くほどの記憶容量や計算スピードを達成しています。本研究室では、ナノメートルオーダー（10-9m）の超微細加工技術の研究を行っており、特に次世代技術として期待されているナノオーダーでの3次元（3D）形状創製技術を重点的に行っております。それを実現するために、3Dナノスタンプを作製する技術と、そのスタンプを押して転写するナノインプリントリソグラフィの研究を行っております。

1. 三次元ナノ構造作製技術の開発

   加速電圧を変化させる電子ビーム露光技術で，最高5nmの深さ分解能を達成した．この技術により，100nm以下で深さを変化させた三次元ナノモールドを作製し，このパターンを転写し複製できた．このことより，量産性のある技術である．この技術は，LSIのリソグラフィやホログラフィック光学素子など，正確な深さ制御が必要なデバイスの作製に有効である．
   

2. ダイヤモンドなどの難加工材の３次元超微細加工

3. 3次元ナノデバイスの作製とその評価技術の研究