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UV curing of shadow parts at room temperature by photoinduced redox-initiated radical polymerization

[ 全著者名 ] Ataru Daimon, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2022

[ 掲載年月 ] 2022年 8月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Fabrication of photo-adhesive materials utilizing chemical properties of 2-mercaptopyridyl groups

[ 全著者名 ] Masahiro Furutani, Daiki Fujihira, Kaoru Endo, Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2022

[ 掲載年月 ] 2022年 8月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Anionic UV curing behavior of epoxy resins containing a photobase generator releasing aminopyridine

[ 全著者名 ] Nanami Ogawa, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2022

[ 掲載年月 ] 2022年 8月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Synthesis of polysilane modified with glycidyl methacrylate and fabrication of negative-tone photopatterns

[ 全著者名 ] Kenyu Sugita, Daisuke Aoki, Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2022

[ 掲載年月 ] 2022年 8月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Cross-linking reagent derived from cysteine and its application to anionic UV curing

[ 全著者名 ] Masahiro Furutani, Shinya Sato, Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2016

[ 掲載年月 ] 2016年 10月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Application to Photoreactive Materials of Photochemical Generation of Superbases with High Efficiency

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2016

[ 掲載年月 ] 2016年 10月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Photochemical generation of strong bases and its application to anionic UV-curing

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu

[ 掲載誌名 ] Proc. RadTech Asia 2011

[ 掲載年月 ] 2011年 6月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Acid Proliferation to Improve the Sensitivity of EUV Resists: A Pulse Radiolysis Study

[ 全著者名 ] Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Atsutaro Yoshizawa, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa

[ 掲載誌名 ] Proc. of SPIE “Advanced Lithography 2011”

[ 掲載年月 ] 2011年 2月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Application of Novel Base Amplifiers with 3-Nitropentan-2-yl Group to Photoreactive Materials

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Yusuke Ito, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura

[ 掲載誌名 ] Mater. Res. Soc. Sympo. Proc.

[ 掲載年月 ] 2007年 2月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Photoimaging Materials Based on Base-amplifying Silicone Resins Having Phenylsulfonylethyl Groups

[ 全著者名 ] Satoru Inoue, Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura

[ 掲載誌名 ] Mater. Res. Soc. Sympo. Proc.

[ 掲載年月 ] 2007年 2月

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Highly Sensitive Photoimaging Materials Based on Nonlinear Organic Reactions of Base-amplifying Silicone Resins

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Hiroshi Kobayashi, Satoru Inoue, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe, Kunihiro Ichimura

[ 掲載誌名 ] ACS PMSE Preprints

[ 掲載年月 ] 2006年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Preparation and Properties of Alkoxy(methyl)silsesquioxanes as a Coating Agents

[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsum and Yoshimoto Abe

[ 掲載誌名 ] Polym. Prepr., 45

[ 掲載年月 ] 2004年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Syntheses and Properties of Ladder Oligosilsesqioxanes

[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsu, and Yoshimoto Abe

[ 掲載誌名 ] Polym. Prepr., 45

[ 掲載年月 ] 2004年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Sensitivity enhancement of anionic UV-curing by base amplifiers

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe and Kunihiro Ichimura

[ 掲載誌名 ] Proceedings of Radtech Asia ‘03

[ 掲載年月 ] 2003年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Novel photoimaging materials consisting of a photobase generator and siloxane oligomers as base amplifier

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Yuichi Morikawa, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe and Kunihiro Ichimura

[ 掲載誌名 ] Proceedings of Radtech Asia ‘03

[ 掲載年月 ] 2003年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Marked enhancement of photoacid-catalyzed pigmentation by acid amplifiers to produce pigment-dispersed polymer films with high transparency

[ 全著者名 ] Kunihiro Ichimura, Koji Arimitsu and Masaru Tahara

[ 掲載誌名 ] Proceedings of Radtech Asia ‘03

[ 掲載年月 ] 2003年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Acid and base proliferation reactions and their applications to photoreactive materials

[ 全著者名 ] Koji Arimitsu, Takahiro Gunji, Yoshimoto Abe and Kunihiro Ichimura

[ 掲載誌名 ] Proc. 75th JSCM Anniversary Conference

[ 掲載年月 ] 2002年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Preparation and properties of silicon-based organic-inorganic hybrids from vinyltrimethox-ysilane

[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsu and Yoshimoto Abe

[ 掲載誌名 ] Proc. 75th JSCM Anniversary Conference

[ 掲載年月 ] 2002年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Preparation and properties of zirconium coating organic-inorganic hybrids

[ 全著者名 ] Takahiro Gunji, Koji Arimitsu and Yoshimoto Abe

[ 掲載誌名 ] Proc. 75th JSCM Anniversary Conference

[ 掲載年月 ] 2002年

[ 著作区分 ] レフェリー付プロシーディングス（外国語）

Novel Acid Amplifiers Liberating Fluoroalkanesulfonic Acids and Thier Applications to Acid-proliferation Type Photoresists

[ 全著者名 ] Sungeun Lee, Koji Arimitsu, Kunihiro Ichimura