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[ 出願番号 ] 19/519,541
[ 出願年月日 ] 2024年9月12日
[ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液
[ 状態 ] 出願公開
[ 出願番号 ] CN202480058022.5
[ 出願年月日 ] 2024年9月12日
[ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液
[ 状態 ] 出願公開
[ 出願番号 ] 2025-545741
[ 出願年月日 ] 2024年9月12日
[ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液
[ 状態 ] 出願公開
[ 出願番号 ] 24863865.2
[ 出願年月日 ] 2024年9月12日
[ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液
[ 状態 ] 出願公開
[ 出願番号 ] 2022-195136
[ 出願年月日 ] 2022年12月6日
[ 発明等の名称 ] 配位高分子膜、配位高分子膜の製造方法、水素発生用電極及び水素発生装置
[ 状態 ] 出願公開
[ 出願番号 ] 2022-066738
[ 出願年月日 ] 2022年4月14日
[ 発明等の名称 ] 金属錯体ナノシート及びその製造方法
[ 状態 ] 登録
[ 出願番号 ] 2021-188145
[ 出願年月日 ] 2021年11月18日
[ 発明等の名称 ] 配位高分子膜及び配位高分子膜の製造方法
[ 状態 ] 登録
[ 出願番号 ] 2021-147216
[ 出願年月日 ] 2021年9月9日
[ 発明等の名称 ] シート及びシートの製造方法
[ 状態 ] 登録
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