Top > Back > 特許 の検索結果 8 件中 1‐8 件目
| [ 出願番号 ] 19/519,541 |
| [ 出願年月日 ] 2024年9月12日 |
| [ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液 |
| [ 状態 ] 出願公開 |
| [ 出願番号 ] CN202480058022.5 |
| [ 出願年月日 ] 2024年9月12日 |
| [ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液 |
| [ 状態 ] 出願公開 |
| [ 出願番号 ] 2025-545741 |
| [ 出願年月日 ] 2024年9月12日 |
| [ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液 |
| [ 状態 ] 出願公開 |
| [ 出願番号 ] 24863865.2 |
| [ 出願年月日 ] 2024年9月12日 |
| [ 発明等の名称 ] 二次元配位高分子の製造方法、二次元配位高分子、及び、二次元配位高分子形成用溶液 |
| [ 状態 ] 出願公開 |
| [ 出願番号 ] 2022-195136 |
| [ 出願年月日 ] 2022年12月6日 |
| [ 発明等の名称 ] 配位高分子膜、配位高分子膜の製造方法、水素発生用電極及び水素発生装置 |
| [ 状態 ] 出願公開 |
| [ 出願番号 ] 2022-066738 |
| [ 出願年月日 ] 2022年4月14日 |
| [ 発明等の名称 ] 金属錯体ナノシート及びその製造方法 |
| [ 状態 ] 登録 |
| [ 出願番号 ] 2021-188145 |
| [ 出願年月日 ] 2021年11月18日 |
| [ 発明等の名称 ] 配位高分子膜及び配位高分子膜の製造方法 |
| [ 状態 ] 登録 |
| [ 出願番号 ] 2021-147216 |
| [ 出願年月日 ] 2021年9月9日 |
| [ 発明等の名称 ] シート及びシートの製造方法 |
| [ 状態 ] 登録 |
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